中頻磁控濺射是磁控濺射鍍膜的主流技術(shù),它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽(yáng)極消失現(xiàn)象;減弱靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性,同時(shí),提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。
1、沉積速率高,生產(chǎn)效率高;
2、工作穩(wěn)定,在靶材的壽命內(nèi),可以實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期穩(wěn)定的運(yùn)行
3、膜層結(jié)構(gòu)致密,表面光滑,有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿足了高性能膜層制備的需求。
中頻磁控濺射鍍膜廣泛應(yīng)用于鐘表首飾、廚衛(wèi)潔具、日用五金、電子產(chǎn)品、汽車配件等的裝飾膜,以及發(fā)動(dòng)機(jī)用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。
可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等金屬化合物膜層,可鍍制金色、玫瑰金、仿金、咖啡色、槍黑色、銀白色、紫色、黑色、七彩色等顏色。
備注:設(shè)備可根據(jù)客戶要求定制。