中頻磁控濺射是磁控濺射鍍膜的主流技術,它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象;減弱靶的異常弧光放電。因此,提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性,同時,提高了介質膜的沉積速率數倍。
1、沉積速率高,生產效率高;
2、工作穩(wěn)定,在靶材的壽命內,可以實現長期穩(wěn)定的運行
3、膜層結構致密,表面光滑,有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度,滿足了高性能膜層制備的需求。
中頻磁控濺射鍍膜廣泛應用于鐘表首飾、廚衛(wèi)潔具、日用五金、電子產品、汽車配件等的裝飾膜,以及發(fā)動機用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。
可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等金屬化合物膜層,可鍍制金色、玫瑰金、仿金、咖啡色、槍黑色、銀白色、紫色、黑色、七彩色等顏色。
備注:設備可根據客戶要求定制。