該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體,主要用于各大院校及科研單位,可滿足多種實驗要求,對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。
1、留多種結構靶位,靈活配置,以滿足不同領域的科研開發;
2、可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統、三維夾具等裝置;
3、膜層結構穩定,附著力強,致密性好,工藝可重復性好;
4、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護;
5、外形美觀、結構緊湊、占地面積小。
可鍍基體材料:黃銅、鋅合金、不銹鋼、陶瓷、玻璃、塑料、陶瓷等;
主要膜系:金屬層如鈦、鉻、銀、銅或金屬化合物膜層,如TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等。
主要顏色:金色系列、玫瑰金、咖啡色、銀白色、槍黑色、藍色、七彩色等。
備注:設備可根據客戶要求定制。