設(shè)備采用真空冷陰極弧光放電技術(shù),一個(gè)真空腔室內(nèi)放置多個(gè)離子弧源,根據(jù)真空腔室的大小可以設(shè)有2、4、6、8、24、40個(gè)或更多弧源,這些弧源按照一定的方式排列,可以一次均勻鍍制批量產(chǎn)品,提高產(chǎn)能。
1、離化率高,入射粒子能量強(qiáng),膜的附著力都很高,膜層質(zhì)量好;
2、沉積速率快,鍍膜效率高;
3、弧源可任意方向安置,有效保障弧源濺射的穩(wěn)定性與均勻性;
4、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,適用于各種形狀工件的鍍膜;
5、工作電壓低,運(yùn)作安全;
6、使用范圍廣,可制備金屬膜、合金膜、化合物膜和多層膜,顏色豐富。
多弧離子鍍廣泛應(yīng)用于手表、手機(jī)、飾品、日用五金、潔具、燈飾等的裝飾膜,以及發(fā)動(dòng)機(jī)用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。
可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類(lèi)金剛石薄膜等金屬化合物膜層,可鍍制金色、玫瑰金、金黃色、咖啡色、槍黑色、銀白色、七彩、紫色、黑色等顏色。
備注:設(shè)備可根據(jù)客戶要求定制。